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国产28nm更进一步又一关键设备被攻克已供货华为
更新时间:2021-07-30

  一颗完整芯片诞生,需要经过芯片设计、芯片代工、封装测试三大环节,每个环节包含许多技术工艺。

  但其实与芯片制造技术相比,半导体设备才是阻碍我国芯片产业发展的主要阻碍。

  不过,伴随着国内芯片企业纷纷意识到芯片自主的重要性。目前,我国不少半导体设备制造商都已经在细分领域实现了技术突破。

  7月8日,国产半导体设备厂商至纯科技在互动平台上表示,至纯科技的28nm设备节点的全部湿法工艺设备认证完毕。

  那么湿法清洗设备到底在芯片生产过程中起到怎样的作用呢?据了解,湿法清洗设备在芯片制造的清洗环节中有着极其重要的作用,表面意思就是,湿法清洗设备可以对硅晶圆表面进行清洗处理,也就是清洗硅晶圆表面的杂物。

  虽然作用似乎非常简单,但需要明白的是,在芯片制造过程中,去除光刻胶、湿法刻蚀的每个环节都需要用到清洗设备。只有这样,才能保证芯片在下一阶段不受杂质干扰,保证芯片良品率。

  不仅如此,越是先进的芯片,在制造过程中需要清洗的次数也就越多,同时,对于清洗设备的技术要求也就越高。

  根据笔者了解到,在整个芯片制造的过程中,清洗设备占据这个步骤的三分之一,并且,清洗设备还关系到芯片的良品率等问题,所以,清洗设备的重要性不言而喻。

  如今,至纯科技在28nm清洗设备完成认证,对于整个半导体产业链而言,将有非常重大的意义,这将可以加速我国芯片自主的步伐。

  值得一提的是,至纯科技已经开始向14nm和7nm节点的清洗设备进发。上海证券报指出,至纯科技的14nm和7nm清洗设备预计会在2022年交付客户验证,其中客户包括中芯国际、长鑫存储、华为等。

  为何至纯科技会取得如此成绩呢?在笔者看来,一方面是因为至纯科技在清洗设备方面的高额研发投入,根据相关研究机构公布的数据显示,至纯科技在清洗设备方面常年进行高额研发投入,并保持行业领先。

  另一方面,国产半导体设备加速替代,国内相关半导体企业为了去美化,开始对国内半导体设备厂商加大支持力度,而至纯科技作为国内为数不多的清洗设备厂商,自然受到相关企业的支持。

  总之,在国产半导体快速发展的当下,至纯科技有望成为国内清洗设备领域的领军人物。